Outils de coupe Machine de revêtement sous vide dur

L'effet des champs magnétiques

L'inégalité du champ magnétique aggravera l'uniformité du film. Le principe de base de la pulvérisation magnétron est d'étendre la trajectoire des électrons à travers le champ magnétique et d'entrer en collision avec des atomes d'argon autant que possible. À l'endroit où le champ magnétique est fort, plus d'ions Ar plus sont générés et bombardés. Il y a plus d'atomes du matériau cible et la couche de film sur le substrat est plus épaisse. Au contraire, là où le champ magnétique est faible, la couche de film est plus mince. Évidemment, la force du champ magnétique affectera également la vitesse de dépôt, la vitesse de dépôt est élevée lorsque le champ magnétique est fort, et inversement, la vitesse de dépôt est faible.

Influence de la température et de la propreté du substrat

Une température de substrat appropriée peut améliorer l'adhérence et la vitesse de dépôt du film, ce qui nécessite d'explorer la température spécifique en fonction de différentes cibles. La propreté du substrat a une grande influence sur l'adhérence entre le substrat et le film, il est donc très important de bien nettoyer le substrat et la chambre à vide.

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