Machine de revêtement DLC
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Machine de revêtement DLC

PVD signifie dépôt physique en phase vapeur, PVD signifie dépôt physique en phase vapeur. Le revêtement PVD fait référence à une variété de techniques de dépôt de couches minces dans lesquelles un matériau solide est vaporisé dans un environnement sous vide et déposé sur des substrats sous forme de matériau pur ou de revêtement de composition d'alliage.

PVD signifie dépôt physique en phase vapeur, PVD signifie dépôt physique en phase vapeur. Le revêtement PVD fait référence à une variété de techniques de dépôt de couches minces dans lesquelles un matériau solide est vaporisé dans un environnement sous vide et déposé sur des substrats sous forme de matériau pur ou de revêtement de composition d'alliage.

Comme le procédé transfère le matériau de revêtement sous la forme d'un seul atome ou au niveau moléculaire, il peut fournir des revêtements extrêmement purs et de haute performance qui, pour de nombreuses applications, peuvent être préférables aux autres procédés utilisés. Au cœur de chaque micropuce et dispositif semi-conducteur, film protecteur durable, lentille optique, panneau solaire et de nombreux dispositifs médicaux, les revêtements PVD fournissent des attributs de performance cruciaux pour le produit final. Que le revêtement doive être extrêmement mince, pur, durable ou propre, le PVD apporte la solution.

Il est utilisé dans une grande variété d'industries telles que les applications optiques allant des lunettes aux vitres teintées autonettoyantes, les applications photovoltaïques pour l'énergie solaire, les applications d'appareils comme les puces informatiques, les écrans et les communications ainsi que les finitions fonctionnelles ou décoratives, des films de protection durs durables. à l'or brillant, au platine ou au chrome.

Les deux procédés de revêtement par dépôt physique en phase vapeur les plus courants sont la pulvérisation cathodique et l'évaporation thermique. La pulvérisation implique le bombardement du matériau de revêtement connu sous le nom de cible avec une charge électrique à haute énergie l'amenant à "pulvériser" des atomes ou des molécules qui sont déposés sur un substrat comme une plaquette de silicium ou un panneau solaire. L'évaporation thermique implique l'élévation d'un matériau de revêtement au point d'ébullition dans un environnement sous vide poussé provoquant la montée d'un flux de vapeur dans la chambre à vide, puis sa condensation sur le substrat.

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