Machine de revêtement au plasma ionique à arc à grande chambre

Le placage ionique est une méthode dans laquelle le gaz ou le matériau évaporé est partiellement ionisé par décharge de gaz dans des conditions de vide, et le matériau évaporé ou son réactif est déposé sur le substrat sous le bombardement des ions de gaz ou des ions de matériau évaporé. Il s'agit notamment du placage ionique par pulvérisation magnétron, du placage ionique réactif, du placage ionique par décharge à cathode creuse (méthode d'évaporation à cathode creuse), du placage ionique à arcs multiples (placage ionique à l'arc cathodique), etc.

Pendant le placage ionique, les particules de matériau en évaporation se déplacent le long de la direction du champ électrique dans le champ électrique sous la forme d'ions chargés, de sorte que toute pièce avec un champ électrique peut obtenir un bon revêtement, supérieur au revêtement sous vide ordinaire, qui ne peut que être obtenu dans le sens direct. beaucoup plus.

En prenant les liants à base de fer et à base de cuivre les plus couramment utilisés comme matrice, en ajoutant respectivement des diamants non plaqués et plaqués de titane sur la surface, puis un frittage par pressage à chaud à différentes températures de frittage pour obtenir la matrice de liant à base de fer et à base de cuivre et matrice de liant à base de fer et de cuivre. L'effet du placage de titane sur la surface du diamant sur la force de maintien du segment de diamant à liaison métallique a été étudié en testant la résistance à la flexion du segment et en observant la morphologie microscopique de la section du segment.

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